載板電鍍加工的成本核心由 “材料 + 工藝 + 產(chǎn)能 + 輔助” 四大類(lèi)因素構(gòu)成。

核心成本構(gòu)成因素

原材料成本：占比，主要是鍍層金屬（銅、鎳、金等）的價(jià)格波動(dòng)，以及電鍍液、添加劑等耗材費(fèi)用。

工藝相關(guān)成本：包括前處理 / 后處理的化學(xué)藥劑、水電能耗，還有高精度設(shè)備的折舊與維護(hù)費(fèi)用。

產(chǎn)能與良率成本：批量越小、良率越低，單位成本越高；復(fù)雜載板（如細(xì)線(xiàn)路、厚鍍層）的加工難度會(huì)增加工時(shí)和報(bào)廢率。

輔助與管理成本：涵蓋檢測(cè)（鍍層厚度、附著力等）費(fèi)用、人工操作成本，以及環(huán)保處理（廢水、廢氣）的合規(guī)支出。

IC 載板電鍍加工是半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域的核心工藝，專(zhuān)為 IC 載板（如 ABF 載板、BT 載板）沉積高精度金屬鍍層，核心作用是實(shí)現(xiàn)芯片與基板的可靠電連接、提升散熱與抗腐蝕性能。

面板級(jí)加工：扇出型封裝常采用面板級(jí)封裝（FOPLP）方式，如盛美上海的 Ultra ECP ap-p 面板級(jí)電鍍?cè)O(shè)備可加工尺寸高達(dá) 515x510 毫米的面板，相比傳統(tǒng)晶圓級(jí)封裝，能提高生產(chǎn)效率，降低成本。

高精度要求：需滿(mǎn)足高密度互連（HDI）、超細(xì)線(xiàn)路 / 焊盤(pán)（線(xiàn)寬 / 線(xiàn)距常＜20μm）的要求，對(duì)鍍層均勻性、致密度、附著力、純度等方面要求，例如銅鍍層孔隙率需≤1 個(gè) /cm2。

復(fù)雜結(jié)構(gòu)處理：對(duì)于埋入式扇出型封裝結(jié)構(gòu)，可能存在深寬比較大的通孔，電鍍時(shí)需要特殊工藝處理，以避免產(chǎn)生空洞等缺陷。

半加成工藝載板電鍍是一種用于制造高精度電子載板的工藝方法，在半導(dǎo)體封裝等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。以下是關(guān)于它的詳細(xì)介紹：

工藝原理：半加成法（SAP）的核心是通過(guò) “逐步沉積銅層” 形成電路。先在絕緣基板表面制備超薄導(dǎo)電層，即種子層，再通過(guò)光刻技術(shù)定義線(xiàn)路圖形，對(duì)圖形區(qū)域電鍍加厚銅層，去除多余部分后形成完整電路。改良型半加成法（mSAP）則是在基板上預(yù)先貼合 3-9μm 的超薄低輪廓銅箔作為基銅，再進(jìn)行后續(xù)操作。

工藝流程

基材準(zhǔn)備：使用表面平整的超薄銅箔基板或無(wú)銅基材，如 1-2μm 厚銅層的基板或 ABF 薄膜等。

化學(xué)沉銅：通過(guò)化學(xué)沉積在基材表面形成 0.3-0.8μm 的薄銅層，作為導(dǎo)電基底，即種子層。

圖形電鍍銅：對(duì)露出的種子層區(qū)域進(jìn)行電鍍加厚，使線(xiàn)路達(dá)到設(shè)計(jì)厚度，通常至 5-15μm，形成導(dǎo)線(xiàn)主體。

去膠與蝕刻：移除光刻膠或干膜，然后蝕刻掉未被電鍍覆蓋的薄種子層銅，由于種子層厚度極薄，蝕刻側(cè)蝕極小。

表面處理：進(jìn)行沉金、OSP、沉錫等表面處理，以滿(mǎn)足后續(xù)封裝和焊接等工藝的要求。