閉環(huán)之困：損耗與機(jī)遇并存

ITO靶材在濺射鍍膜過程中利用率通常僅30%左右，大量含銦廢料（廢舊靶材、邊角料、鍍膜腔室廢料）隨之產(chǎn)生。過去，這些價(jià)值的廢料往往被簡單處理或堆積。建立從“廢靶材→再生銦→新靶材”的閉環(huán)體系，成為破解資源約束的黃金路徑。

物理分離法中的機(jī)械剝離技術(shù)，是通過破碎、篩分和浮選等方法，將ITO涂層與玻璃基板進(jìn)行分離。隨后，再結(jié)合化學(xué)處理對分離出的ITO涂層進(jìn)行銦的提取。這種方法主要適用于LCD面板的回收，但需注意，其純度可能相對較低。

銦靶材回收的主要任務(wù)是將銦從靶材中的其他金屬和材料中分離出來，并將其提純至高純度。回收方法包括火法、濕法和電化學(xué)法。

火法冶金工藝使用高溫熔煉和精煉來回收銦。這種方法適用于大規(guī)?；厥?，但存在一些缺點(diǎn)，如產(chǎn)生危險(xiǎn)廢物、高能耗，以及可能損失有價(jià)值的銦。

濕法冶金工藝?yán)没瘜W(xué)浸出劑將銦從靶材中溶解出來。這種方法比火法更環(huán)保，適用于從成分復(fù)雜的靶材中回收銦。然而，這一過程可能較為復(fù)雜，需要使用危險(xiǎn)化學(xué)品。

電化學(xué)過程通過電流將銦從靶材中溶解和回收。這種方法也比火法更環(huán)保，可以回收較高純度的銦。但這一過程可能較為復(fù)雜，需要專門的設(shè)備和專業(yè)知識。

ITO靶粉回收過程通常包括以下幾個(gè)環(huán)節(jié)：

1.收集與分類。首先需要將生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的廢靶材、切削碎屑、鍍膜殘?jiān)冗M(jìn)行分類收集。不同類型的廢料可能需要采用不同的處理方式，因此分類是確保后續(xù)處理效率的基礎(chǔ)。

2.預(yù)處理。廢料中可能含有油脂、灰塵或其他雜質(zhì)，需通過清洗、烘干等方式進(jìn)行初步處理。對于塊狀廢料，可能需要通過機(jī)械破碎、研磨等方式將其轉(zhuǎn)化為粉末狀，以便于后續(xù)化學(xué)處理。

3.溶解與浸出。將預(yù)處理后的靶粉與酸性溶液（如鹽酸或硫酸）反應(yīng)，使金屬成分溶解到溶液中。這一步驟需要控制溫度、濃度和反應(yīng)時(shí)間，以提高金屬的浸出率。

4.分離與純化。通過化學(xué)沉淀、溶劑萃取或離子交換等方法，將溶液中的銦與其他金屬（如錫、鐵等）分離開來。隨后，通過進(jìn)一步提純，獲得高純度的銦化合物。

5.還原與加工。將純化后的銦化合物通過電解或化學(xué)還原法轉(zhuǎn)化為金屬銦，并可進(jìn)一步加工成符合生產(chǎn)要求的ITO靶材。