閉環(huán)之困：損耗與機遇并存

ITO靶材在濺射鍍膜過程中利用率通常僅30%左右，大量含銦廢料（廢舊靶材、邊角料、鍍膜腔室廢料）隨之產(chǎn)生。過去，這些價值的廢料往往被簡單處理或堆積。建立從“廢靶材→再生銦→新靶材”的閉環(huán)體系，成為破解資源約束的黃金路徑。

當前，銦的主要消費領域集中在ITO靶材上，其占比高達約70%。此外，半導體制造和合金領域的需求也不容忽視，兩者合計占總消費量的24%，而其他研究領域則占據(jù)了6%。然而，由于ITO制造過程中靶材利用率僅達30%左右，導致大量剩余材料成為廢料。加之電子廢棄物的激增，銦回收已成為資源可持續(xù)利用不可或缺的一環(huán)。隨著技術進步和應用需求的增長，ITO廢料回收能有效減少原礦資源消耗，實現(xiàn)資源的可持續(xù)性發(fā)展。

物理分離法中的機械剝離技術，是通過破碎、篩分和浮選等方法，將ITO涂層與玻璃基板進行分離。隨后，再結合化學處理對分離出的ITO涂層進行銦的提取。這種方法主要適用于LCD面板的回收，但需注意，其純度可能相對較低。

ITO靶粉回收雖具有較高價值，但實際操作中需注意以下幾點：

1.防護。回收過程涉及強酸、有機溶劑等化學品，操作人員需穿戴防護裝備，避免直接接觸。工作場所應保持良好的通風條件，防止有害氣體積聚。

2.環(huán)境保護?；厥者^程中產(chǎn)生的廢水、廢渣需妥善處理，避免對環(huán)境造成污染。酸性廢液應中和后再排放，有機溶劑應盡量回收利用或進行無害化處理。

3.質(zhì)量控制?；厥盏玫降慕饘巽熜杞?jīng)過嚴格檢測，確保其純度符合再次生產(chǎn)的要求。雜質(zhì)含量過高會影響終產(chǎn)品的性能。

4.經(jīng)濟性分析?；厥枕椖啃杈C合考慮成本與收益，包括原材料收集、化學品消耗、能源使用及設備折舊等因素。企業(yè)可根據(jù)自身情況選擇合適的回收規(guī)模和技術路線。