集成電路（IC）制造

用途：作為金屬互連層或接觸電極材料，用于芯片內(nèi)部的導(dǎo)電線路、晶體管電極等關(guān)鍵部位。

優(yōu)勢：銦的低熔點(diǎn)和高延展性使其易于加工成極薄的薄膜，滿足納米級制程對材料精度的要求。

精密制造與特殊材料領(lǐng)域

1. 高端軸承與涂層

用途：在航空發(fā)動(dòng)機(jī)、精密機(jī)床的軸承表面濺射銦涂層，降低摩擦系數(shù)，提高潤滑性能和抗磨損能力。

場景：飛機(jī)渦輪軸承、光刻機(jī)精密運(yùn)動(dòng)部件等。

2. 低熔點(diǎn)合金與焊料

成分：銦與錫、鉛、鎵等金屬組成的共晶合金（如 In-Sn 合金，熔點(diǎn)約 118℃）。

應(yīng)用：用于電子元件的低溫焊接、熱敏感器件的封裝，以及核工業(yè)中的熔斷保護(hù)裝置。

功率與溫度管理

濺射功率：

銦的濺射閾值較低（約 10 eV），起始功率不宜過高（建議從 50 W 逐步遞增），避免瞬間過熱導(dǎo)致靶材熔融或飛濺（銦熔點(diǎn)僅 156.6℃，過熱易造成靶材局部熔化，形成 “熔坑” 影響均勻性）。

直流濺射功率密度通常為 1~5 W/cm2，射頻濺射可適當(dāng)提高至 5~10 W/cm2。

靶材冷卻：

采用水冷靶架（水溫控制在 15~25℃），確保濺射過程中靶材溫度低于 80℃（高溫會(huì)導(dǎo)致銦原子擴(kuò)散加劇，影響薄膜結(jié)晶質(zhì)量）。

定期檢查冷卻水路是否通暢，避免因散熱不良導(dǎo)致靶材變形或脫靶。

靶材回收與再利用

回收價(jià)值：報(bào)廢銦靶（含濺射過程中產(chǎn)生的碎屑、廢膜）可通過化學(xué)溶解（如鹽酸溶解）、電解精煉等工藝回收銦金屬（回收率可達(dá) 95% 以上），降低生產(chǎn)成本。

環(huán)保要求：回收過程中產(chǎn)生的廢水需處理至重金屬排放標(biāo)準(zhǔn)（如銦離子濃度≤0.1 mg/L），避免環(huán)境污染。